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PREPプラズマ回転電極プロセス装置

PREP装置は主にニッケルベースの製造に使用される。 超合金 粉末、チタン合金粉末、ステンレス鋼粉末、耐火金属粉末など。生産された粉末は高品質で、電子ビーム選択溶解、レーザー溶解蒸着、スプレーコーティング、熱間静水圧プレスなどに広く使用されています。

アプリケーションエリア

航空宇宙

健康

工具

自動車

機械

新エネルギー

エレクトロニクス

技術的特徴

高品質パウダー

PREP装置は、中空粒子やサテライト粒子を最小限に抑え、ガスの混入が少ない、滑らかでクリーンな表面を特徴とする一流の粉体品質を保証し、材料の完全性と性能を高めます。

シンプルなプロセスパラメータ制御

PREP装置を使用すれば、プロセスパラメーターの制御は簡単です。ユーザーフレンドリーなインターフェースは、簡単な操作と自動生産を可能にし、ワークフローを簡素化し、手作業を減らします。

多目的な適用性

適応性の高いPREP装置は、チタン、ニッケル、コバルト、耐火金属、合金など多様な素材の製造に適しており、さまざまな製造ニーズに簡単に対応できます。

成熟したプロセス技術

成熟したプロセス技術の上に構築されたPREP装置は、信頼性と効率性を提供します。研究およびバッチ生産におけるその実績は、業界の要求に効率的に応える自信を与えます。

適切な素材

粉砕特性

高い真球度

PREP装置は、真球度の高いパウダーを安定して供給し、様々な製造工程で重要な均一な粒子形状と粒度分布を確保します。

粒子径範囲

PREP装置は、通常30ミクロンから300ミクロンまでの多様な粒度範囲により、特定のアプリケーション要件に応じてカスタマイズする柔軟性を提供し、様々な材料ニーズに対応します。

具体例 - Ti64 G5パウダー

例えば、Ti64 G5パウダーの場合、PREP装置は75~200マイクロメートルのD50粒度分布を達成します。この目標粒度範囲は、精密な粉末特性が不可欠な積層造形やその他の用途に最適です。

技術パラメーター

誘導電極直径 50~80mm
誘導電極の長さ ≤700mm
バー容量 60
回転速度 0~33000r/min
総合力 200KW
使用真空度 6.67×10-3Pa
究極の真空度 6.67×10-1Pa
圧力上昇率 ≤2Pa/h
球形度 ≥95%
サイズ(L×W×H) 8m×7m×7.5m
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PREP機器のよくある質問

PREP装置とは何ですか?

EIGA装置は、金属を電極誘導溶解した後、ガスアトマイズして微粉末粒子を形成するプロセスを通じて、合金金属粉末を製造するために使用される特殊なシステムです。

PREP装置は、プラズマアークで金属電極を溶融し、その後微粒化して微粉粒子を生成します。回転電極の設計により、均一な粒子分布と安定した品質を保証します。

PREPの設備は、チタン、ニッケル、コバルト、耐火物などの金属やその合金など、幅広い素材の加工が可能で、さまざまな産業ニーズに対応しています。

PREP装置の利点には、粉末粒子の高い真球度、粒度分布の精密な制御、特定の用途に合わせたカスタマイズオプション、効率的な生産工程などがあります。

はい、PREP装置は研究用と工業規模の生産用に設計されており、さまざまな製造アプリケーションの要求を満たす高い処理能力と拡張性を提供します。

はい、PREP装置は粒度分布を精密にコントロールでき、特定の要件に応じてパラメーターをカスタマイズできるため、安定した品質と性能を保証できます。

PREP装置には通常、粒度分析、形態検査、化学組成分析などの品質管理手段が含まれ、業界標準に適合した高品質の粉末の生産を保証している。

多くのPREP機器サプライヤーは、オペレーターのための包括的なトレーニングプログラムを提供しており、機器の操作、メンテナンス手順、安全プロトコル、トラブルシューティング技術などを網羅し、安全で効率的なオペレーションを保証している。